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      產(chǎn)品中心
      產(chǎn)品名稱:

      RTP機(jī)臺(tái)測溫儀EX-ET-222

      描述:RTP機(jī)臺(tái)測溫儀EX-ET-222廣泛用于AMAT等公司的快速退火,擴(kuò)散及氧化工藝。
      訪問次數(shù): 884
      更新時(shí)間: 2025-07-25

      產(chǎn)品介紹

      主要特點(diǎn)

      • 使用短波進(jìn)行低溫測量

      • 精密度高, 分辨率達(dá) 0.01 oC , 測溫精度1.5 oC

      • 測溫重復(fù)性 0.1 oC , 溫漂不高于 0.1 oC / 年

      • 測量速度達(dá) 1,000 值 / 秒

      • 數(shù)字/或模擬輸出, 易于集成到控制系統(tǒng)






      詳細(xì)說明

      作為擁有30多年歷史的貴金屬熱電偶行業(yè)先驅(qū)者, BASF已將其溫度測量技術(shù)專長應(yīng)用于光學(xué)溫度測量。 BASF Exactus®紅外溫度傳感器取得了技術(shù)性突破,在非接觸式溫度測量中表現(xiàn)出了顯著的性能優(yōu)勢。與其他同類產(chǎn)品相比,其靈敏的電子技術(shù)、精密光學(xué)技術(shù)以及利用短波長測量低溫的能力使得過程控制更加嚴(yán)格、精度更高、整體性能更好.

      RTP機(jī)臺(tái)測溫儀EX-ET-222系BASF Exactus®系列產(chǎn)品在控制晶圓之間溫度和薄膜厚度的均勻性方面具有許多優(yōu)勢:高度敏感的電子學(xué)和先進(jìn)的光學(xué)技術(shù)意味著可以用更短波長的探測器來測量輻射能,這減少了晶圓透射及發(fā)射率造成的誤差。此外,高速測量和高分辨率確保了控溫和噪聲抑制的優(yōu)異性能, 由此提供了更好的晶圓溫度監(jiān)控和生產(chǎn)工藝。

      RTP機(jī)臺(tái)測溫儀EX-ET-222采用900nm左右的傳感器直連光管連接形式結(jié)合多通道IFM10-EC,最多可實(shí)現(xiàn)10點(diǎn)實(shí)時(shí)測量和記錄,測溫范圍覆蓋250-1300℃,精度高達(dá)1.5℃, 重復(fù)性0.1℃。可適配AMAT的RTP測溫系統(tǒng)。

      BASF Exactus®系列紅外測溫設(shè)備已廣泛用于快速退火、快速氧化、薄膜沉積等半導(dǎo)體工藝,并被集成在多家MOCVD設(shè)備以及其他RTP設(shè)備上如:AIXTRON, LPE,Premtek,AMAT等。另外,由于其具有很高的測溫精度和穩(wěn)定性,也被一些高溫黑體爐廠家作為溫度標(biāo)準(zhǔn)器使用,如Thermogauge公司。

      典型應(yīng)用

      • RTP控溫

      • MOCVD控溫

      • MBE控溫

      • 溫度標(biāo)準(zhǔn)器



      技術(shù)參數(shù)

      測量參數(shù)
      溫度范圍:

      250 – 1300℃

      工作波長:

      約900nm

      測量精度:優(yōu)于1.5℃ 或 0.15%測值
      分辨率:

      最高0.01℃

      重復(fù)精度:0.1℃
      溫度漂移:最大 0.10℃/年
      環(huán)境: 0.05℃/℃ @ 20-45℃, 0.10℃/℃ @ 其它溫度
      鏡頭:光管
      物理參數(shù)
      環(huán)境溫度:

      電子器件: 10 - 60℃

      重量:標(biāo)準(zhǔn)高溫計(jì),0.222 kg
      功率:0.75W (電子模塊)








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